背 景

作为酯类体系的重要湿电子化学品，丙二醇甲醚醋酸酯在半导体行业中具有广泛的应用。在光刻胶的制备和应用过程中，它作为溶剂能够很好地溶解光刻胶中的各种成分，保证光刻胶的均匀性和稳定性，从而影响光刻工艺的精度和质量。

工艺流程

产品检测结果

技术特点

工艺简单：通过特种分离膜去除溶剂的金属杂质，简化分离工艺节能降耗:60℃下操作，能耗降低30%以上产品纯度高：纯度≥G4等级